磁控溅射技术的原理与发展
作 者：王俊 郝赛
作者机构：山东大学材料科学与工程学院,山东济南250002
出 版 物：科技创新与应用
年 卷 期：2015年 第2期
摘 要：磁控溅射技术因为其自身所具有的显著优点，已经被越来越广泛的运用于各个领域，其中以工业镀膜方面的应用最为广泛，相应的其生产技术也得到了很大的改进。文章着重讲述磁控技溅射技术的原理，特点以及磁控溅射技术的发展趋势。
页 码：35-35页
主 题 词：镀膜技术 磁控溅射 平衡磁控溅射 非平衡磁控溅射
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